Este sitio web utiliza Cookies propias y de terceros de análisis para recopilar información con la finalidad de mejorar nuestros servicios, así como para el análisis de su navegación. Si continua navegando, supone la aceptación de la instalación de las mismas. El usuario tiene la posibilidad de configurar su navegador pudiendo, si así lo desea, impedir que sean instaladas en su disco duro, aunque deberá tener en cuenta que dicha acción podrá ocasionar dificultades de navegación de la página web.

Aceptar
Cómo configurar

CIDETECen ikerketa lan bat Transactions of the Institute of Metal Finishing aldizkariko azalean

25/02/2015
Lanaren berritasunetako bat pultsu bidezko elektrodeposizio prozesuak aztertzeko eta optimizatzeko metodo kimiometrikoak erabiltzea da

Transactions of the Institute of Metal Finishing aldizkariak CIDETECeko ikertzaileek idatzitako artikulu bat hautatu zuen 2014ko azken zenbakirako. Aldizkari horrek nazioarteko estaldura ematen die gainazalen akaberei, gainazalen ingeniaritzari eta gainazalen funtzionalizazioari lotutako gaiei, bai oinarrizko ikerketaren arloan bai aplikazio industrialean, eta bigarren kuartilean indexatuta dago, Surfaces, Coatings and Films arloan.

 

Artikuluaren izenburua "Advanced Ni–W coatings obtained by the combination of pulse plating and chemometric techniques" da, eta CIDETECeko Gainazalen Dibisioko, Euskal Herriko Unibertsitateko Kimika Aplikatuko Departamentuko eta Bartzelonako Unibertsitateko Kimika Fisikoko Departamentuko ELECTRODEP laborategiko ikertzaileek egindako lanaren emaitza da. Bertan, teknika kimiometrikoak erabiliz korronte pultsuen bidez NiW estalduren elektrodeposizioan lortutako emaitzak deskribatzen dira, eta parametro esperimentalek estaldura horien egituran eta propietateetan duten eragina aztertzen da.

 

Ikerketa argitaratu duen argitalpenaren zenbakia korronte pultsuen bidezko elektrodeposizioari eskainita dago. Aldizkariak artikuluan sartutako irudietako bat aukeratu du bere lehen orrirako, lortutako emaitzen garrantziagatik. Irudi horrek aldagai askoko analisiaren bitartez lortutako erantzun-gainazal batzuk erakusten ditu, pultsuen parametroak eta garatutako NiW estalduren propietateak erlazionatzen dituztenak. Pultsu bidezko elektrodeposizio prozesuak aztertzeko eta optimizatzeko metodo kimiometrikoak erabiltzea ez dago oso zabalduta, eta horixe da hain zuzen lanaren berritasunetakoa.

Zabaldu: